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设备别名：真空烧结炉，箱式真空炉 真空炉广泛用于陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材等领域的生产及实验。真空气氛炉是真空技术与热处理技术相结合的新型热处理技术，真空热处理所处的真空环境指的是低于一个大气压的气氛环境，包括低真空、中等真空、高真空，真空热处理实际也属于气氛控制热处理。真空/烧结炉，箱式真空炉 一、真空箱式炉应用领域 该真空箱式炉以电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，真空箱式炉广泛应用于金属材料在低真空、还原性、保护性气氛下的热处理；也可以用于特殊材料的热处理。
二、真空箱式炉主要特点 炉门口安装有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进入，并有多处洗炉膛进气口，出气口处有燃烧嘴，可以通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳等气体，能抽真空，真空度可达15pa,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的产品。
三、真空箱式炉规格型号 设备型号 TSZ-2-12 TSZ-6-12 TSZ-8-12 TSZ-10-12 TSZ-15-12 额定温度 1200℃ 1200℃ 1200℃ 1200℃ 1200℃ 控制精度 ±1℃ ±1℃ ±1℃ ±1℃ ±1℃ 炉膛尺寸（mm） 200×150×150 （H×W×D） 300×200×200 （H×W×D） 300×250×250 （H×W×D） 400×300×300 （H×W×D） 500×400×400 （H×W×D） 发热元件 进口电阻丝 进口电阻丝 进口电阻丝 进口电阻丝 进口电阻丝 真空度 100pa 100pa 100pa 100pa 100pa 冷态压升率 ≦10～20pa/h ≦10～20pa/h ≦10～20pa/h ≦10～20pa/h ≦10～20pa/h 温控方式 可控硅模块自控 真空/烧结炉，箱式真空炉
